Si Windows

シリコンは主に半導体で使用される単結晶で、1.2μm ～ 6μm の IR 領域では非吸収性です。ここでは、IR 領域アプリケーションの光学コンポーネントとして使用されます。
シリコンは、主に 3 ～ 5 ミクロン帯域の光学窓として、また光学フィルター製造用の基板として使用されます。表面が研磨されたシリコンの大きなブロックは、物理学実験の中性子ターゲットとしても使用されます。
シリコンはチョクラルスキー引き上げ技術 (CZ) によって成長し、9 ミクロンで吸収バンドを引き起こす酸素をいくらか含んでいます。これを避けるために、シリコンをフロートゾーン (FZ) プロセスで準備することができます。光学シリコンは通常、10 ミクロン以上で最良の透過率を得るために低濃度にドープされます (5 ～ 40 オーム cm)。シリコンにはさらに 30 ～ 100 ミクロンの通過帯域があり、これは抵抗率が非常に高く、補償されていない材料でのみ有効です。ドーピングは通常、ホウ素 (p 型) とリン (n 型) です。
応用：
• 1.2 ～ 7 μm の NIR アプリケーションに最適
• 広帯域 3 ～ 12 μm の反射防止コーティング
• 重量に敏感な用途に最適
特徴：
• これらのシリコン窓は 1µm 以下の領域では透過しないため、主な用途は IR 領域です。
・熱伝導率が高いため、高出力レーザーミラーとしての使用に適しています。
▶シリコンウィンドウは光沢のある金属表面を持っています。可視領域では反射および吸収しますが、透過しません。
▶シリコンウィンドウの表面反射により、透過率が53%低下します。(測定データ1 面反射27%)